業務内容　/ウシオケミックス株式会社

ウシオケミックスは、有機合成技術、精製技術、分析技術を駆使し、ますます高度化する多種多様な
【低メタル品、超高純度品…etc 】お客さまのご要望にお応えできるよう日々挑戦しております。

　

　　
TECHNOLOGY 独自技術　　　　　　　　　　　　　

     ①  数ｇのサンプル合成から数トンまでの製造を同じ担
           当者が進め、迅速かつ安全な立ち上げができます。

     ②  合成から蒸留・カラム等の精製まで一貫して対応で
           きます。

     ③  蒸留精製によって、有機化合物や有機溶媒を『低
           メタルグレード』にできます。

     ④  クリーンブース等を効果的に用いることで、コンタ
           ミの少ない製造を心がけています。

     ⑤  最新の分析機器【 GC-MS、LC-TOF/MS…etc 】を駆
           使し、数ppmの不純物が管理された高純度品を提供
           できます。（例えばイオンクロマトグラフィーを使
           用しハロゲンイオン１ppm以下の分析が可能です。

     ⑥  豊富な分析機器と設備により、シームレスでスピー
           ド感のある製造が可能。短納期のご要望にもお応え
           いたします。

主な有機合成反応	① Grignard反応 ② Witting反応 ③ 鈴木カップリング ④ Heck反応 ⑤ Friedel Crafts反応 ⑥ Diels Alder反応 ⑦ LAH還元 ⑧ SBH還元 ⑨ ヒドラジン還元・接触水添反応[10kg/cm²まで] （Pd、Ni、Rh触媒など） ⑩ 臭素化（Br₂、NBS）（発生した酸性ガスを除害するスクラバーを設置） ⑪ 低温反応（Li化など）（-80℃付近での反応可能） ⑫ 高温反応（300℃まで）
主な精製技術	〇蒸留精製　①高融点（mp 120℃） ②高沸点（内温 300℃） ③高真空（10Pa程度） ④メタルフリー（1ppb以下） ⑤低水分化〇薄膜蒸留精製（150℃／数Ｐａ）（ワイプレン）熱の影響を受けやすい物質などを薄膜形成しながら蒸留し、装置内に滞留する時間を短くできます。ラボスケール（ガラス製）～現場スケール（SUS）まで対応可能です。〇昇華精製（有機EL材料、有機半導体材料など） 1バッチ 5g～10gの昇華精製が可能です。〇カラム精製シリカゲルやアルミナなど数kg～100kg程度まで充填が可能な装置を多種揃えています。ジャケット付　40℃～50℃での精製が可能です。

主な有機合成反応

   ① Grignard反応
   ② Witting反応
   ③ 鈴木カップリング
   ④ Heck反応
   ⑤ Friedel Crafts反応
   ⑥ Diels Alder反応
   ⑦ LAH還元
   ⑧ SBH還元
   ⑨ ヒドラジン還元・接触水添反応[10kg/cm²まで]
     （Pd、Ni、Rh触媒など）
   ⑩ 臭素化（Br₂、NBS）（発生した酸性ガスを除害するスクラバーを設置）
   ⑪ 低温反応（Li化など）（-80℃付近での反応可能）
   ⑫ 高温反応（300℃まで）

主な精製技術

   〇蒸留精製　①高融点（mp 120℃）
                                ②高沸点（内温 300℃）
                                ③高真空（10Pa程度）
                                ④メタルフリー（1ppb以下）
                                ⑤低水分化

   〇薄膜蒸留精製（150℃／数Ｐａ）（ワイプレン）
        熱の影響を受けやすい物質などを薄膜形成しながら蒸留し、装置内に滞留
        する時間を短くできます。
        ラボスケール（ガラス製）～現場スケール（SUS）まで対応可能です。

   〇昇華精製（有機EL材料、有機半導体材料など）
        1バッチ 5g～10gの昇華精製が可能です。

   〇カラム精製
        シリカゲルやアルミナなど数kg～100kg程度まで充填が可能な装置を多種
        揃えています。ジャケット付　40℃～50℃での精製が可能です。

[ LC-TOF/MS ] Waters製 1台	[ GC-MS ] SHIMADZU製 1台	[NMR(400MHz)] JEOL製１台	[ GC ] SHIMADZU製１０台	[ HPLC ] SHIMADZU製２３台
[ ICP-MS/MS ] PerkinElmer製 [NexION2000S] 1台	[ ICP-MS/MS ] Agilent製 [8900] 1台	[IC ｲｵﾝｸﾛﾏﾄｸﾞﾗﾌｨｰ] Dionex製　1台 Metrohm製　1台	[ ICP-OES ] Thermo Fisher製１台	[ UPLC ] Warters製 4台(広島2台含む)
[ 昇華精製装置 ] Creaphys製 1台	[ DSC ] 日立ﾊｲﾃｸｻｲｴﾝｽ製 1台	[ 紫外分光光度計 ] 日本分光製 1台	[分光蛍光光度計] 日立ﾊｲﾃｸｻｲｴﾝｽ製１台	[ 融点測定装置 ] Mettler製 1台

[ LC-TOF/MS ]

Waters製
1台

[ GC-MS ]

SHIMADZU製
1台

[NMR(400MHz)]

JEOL製
１台

[ GC ]

SHIMADZU製
１０台

[ HPLC ]

SHIMADZU製
２３台

[ ICP-MS/MS ]

PerkinElmer製
[NexION2000S] 1台

[ ICP-MS/MS ]

Agilent製
[8900] 1台

[IC ｲｵﾝｸﾛﾏﾄｸﾞﾗﾌｨｰ]

Dionex製　1台
Metrohm製　1台

[ ICP-OES ]

Thermo Fisher製
１台

[ UPLC ]

Warters製
4台(広島2台含む)

[ 昇華精製装置 ]

Creaphys製
1台

[ DSC ]

日立ﾊｲﾃｸｻｲｴﾝｽ製
1台

[ 紫外分光光度計 ]

日本分光製
1台

[分光蛍光光度計]

日立ﾊｲﾃｸｻｲｴﾝｽ製
１台

[ 融点測定装置 ]

Mettler製
1台

[ FT-IR ]	１台 SHIMADZU製	[ GPC ]	１台 TOSOH製
[ 色差計 ]	１台日本電色工業製	[ 凍結乾燥機 ]	１台
[ ｶｰﾙﾌｨｯｼｬｰ水分計 ]	１台日東精ｴｱﾅﾘﾃｨｸ製	[ デジタル屈折計 ]	１台アタゴ製
[ 施光計 ]	１台 HORIBA製	[ 電位差自動滴定装置 ]	１台京都電子製
[ 熱重量分析装置 ]	１台 ULVAC製	[ 偏光顕微鏡 ]	１台 Nikon製
[ 振動式粘度計 ]	１台 SEKONIC製	[ 中圧分取ｸﾛﾏﾄｸﾞﾗﾌｨｰ ]	１台山善製
[ ﾍｯﾄﾞｽﾍﾟｰｽｵｰﾄｻﾝﾌﾟﾗ ]	１台 PerkinElmer製	[ ＴＧ ]	１台 PerkinElmer製

[ FT-IR ]

１台 SHIMADZU製

[ GPC ]

１台 TOSOH製

[ 色差計 ]

１台日本電色工業製

[ 凍結乾燥機 ]

１台

[ ｶｰﾙﾌｨｯｼｬｰ水分計 ]

１台日東精ｴｱﾅﾘﾃｨｸ製

[ デジタル屈折計 ]

１台アタゴ製

[ 施光計 ]

１台 HORIBA製

[ 電位差自動滴定装置 ]

１台京都電子製

[ 熱重量分析装置 ]

１台 ULVAC製

[ 偏光顕微鏡 ]

１台 Nikon製

[ 振動式粘度計 ]

１台 SEKONIC製

[ 中圧分取ｸﾛﾏﾄｸﾞﾗﾌｨｰ ]

１台山善製

[ ﾍｯﾄﾞｽﾍﾟｰｽｵｰﾄｻﾝﾌﾟﾗ ]

１台 PerkinElmer製

[ ＴＧ ]

１台 PerkinElmer製

[ GC ]	31台 SHIMADZU製	[ HPLC ]	36台 SHIMADZU製
[ UPLC ]	2台 Warters製	[ ｶｰﾙﾌｨｯｼｬｰ水分計 ]	2台京都電子製
[ 紫外分光光度計 ]	1台 SHIMADZU製

[ GC ]

31台 SHIMADZU製

[ HPLC ]

36台 SHIMADZU製

[ UPLC ]

2台 Warters製

[ ｶｰﾙﾌｨｯｼｬｰ水分計 ]

2台京都電子製

[ 紫外分光光度計 ]

1台 SHIMADZU製

[ 正面事務所玄関 ]	[ 工場外観 ]	[ 工場内 ]

反応及び濃縮釜 8種類	① 2500Ｌ 2台 (GL : -30℃～150℃) ② 2000Ｌ 5台 (GL : -30℃～150℃) ③ 1500Ｌ 3台 (GL : -30℃～150℃) ④ 1000Ｌ 8台 (GL : -30℃～150℃) ⑤ 1000Ｌ 1台 (SUS : 熱媒～250℃まで) ⑥ 1000Ｌ 1台 (SUS : -30℃～150℃) ⑦ 500Ｌ 2台 (GL : -30℃～150℃) ⑧ 700Ｌ 1台 (SUS : -70℃～低温可)	蒸留釜（熱媒） 3種類	① 500Ｌ 1台 (SUS : ～250℃ 真空度50Pa 2段・融点150℃まで可) ② 400Ｌ 1台 (SUS : ～150℃ 真空度50Pa 5段・ｲｵﾝﾌﾘｰ溶媒専用) ③ 200Ｌ 1台 (SUS : ～250℃ 真空度20Pa 3段・融点100℃まで可)

[ ｵｰﾌﾟﾝｸﾛﾏﾄ装置 ]	1台 (SUS : ｼﾘｶｹﾞﾙ220kg・600mmφ×2ｍ)	[ ｵｰﾌﾟﾝｸﾛﾏﾄ装置 ]	1台 (SUS : ｼﾘｶｹﾞﾙ150kg・400mmφ×2ｍ)
[ 遠心分離機 ]	5台 ( SUS )	[ ﾌｨﾙﾀｰﾌﾟﾚｽ ]	1台
[ 冷凍機 ]	3台	[ 濾過器 ]	4台 (SUS : 600mmφ)
[ 真空乾燥機(棚段式) ]	13台 (SUS : 100～200L )	[ ｺﾆｶﾙﾄﾞﾗｲﾔｰ ]	1台 (GL : 500L )
[ 真空ポンプ ]	9台 (ｱﾝﾚｯﾄ)	[ エゼクター ]	2台
[ スクラバー ]	2台 (FRP : 風量50ｍ³/min)	[ 薄膜蒸留(ﾗﾎﾞ機) ]	1台 (ｶﾞﾗｽ : 100～1000g/ﾊﾞｯﾁ)
[ GC ]	8台 SHIMADZU製	[ HPLC ]	5台 SHIMADZU製

[ ｵｰﾌﾟﾝｸﾛﾏﾄ装置 ]

1台 (SUS : ｼﾘｶｹﾞﾙ220kg・600mmφ×2ｍ)

[ ｵｰﾌﾟﾝｸﾛﾏﾄ装置 ]

1台 (SUS : ｼﾘｶｹﾞﾙ150kg・400mmφ×2ｍ)

[ 遠心分離機 ]

5台 ( SUS )

[ ﾌｨﾙﾀｰﾌﾟﾚｽ ]

1台

[ 冷凍機 ]

3台

[ 濾過器 ]

4台 (SUS : 600mmφ)

[ 真空乾燥機(棚段式) ]

13台 (SUS : 100～200L )

[ ｺﾆｶﾙﾄﾞﾗｲﾔｰ ]

1台 (GL : 500L )

[ 真空ポンプ ]

9台 (ｱﾝﾚｯﾄ)

[ エゼクター ]

2台

[ スクラバー ]

2台 (FRP : 風量50ｍ³/min)

[ 薄膜蒸留(ﾗﾎﾞ機) ]

1台 (ｶﾞﾗｽ : 100～1000g/ﾊﾞｯﾁ)

[ GC ]

8台 SHIMADZU製

[ HPLC ]

5台 SHIMADZU製

[ 工場外観 ]	[ 工場内① ]	[ 工場内② ]

反応及び濃縮釜 7種類	① 2000Ｌ 5台 (GL : -30℃～150℃) ② 1000Ｌ 4台 (GL : -30℃～150℃) ③ 1000Ｌ 1台 (GL : 10kg/cm²まで) ④ 1000Ｌ 2台 (GL : 電材専用晶析釜) ⑤ 1000Ｌ 2台 (SUS : 電材専用晶析釜) ⑥ 500Ｌ 2台 (SUS : 電材専用晶析釜) ⑦ 200Ｌ 1台 (GL : -30℃～150℃)	蒸留釜（熱媒） 3種類	① 1000Ｌ 1台 (SUS : ～250℃ 10段) ② 2000Ｌ 1台 (SUS : ～150℃ 30段) ③ 1000Ｌ 1台 (SUS : ～150℃ ｲｵﾝﾌﾘｰ溶媒専用)

[ ｸﾛﾏﾄ装置 ]	2台 (SUS : ｼﾘｶｹﾞﾙ220kg・600mmφ×2ｍ)	[ ｵｰﾌﾟﾝｸﾛﾏﾄ装置 ]	1台 (SUS : ｼﾘｶｹﾞﾙ160kg・400mmφ×2ｍ)
[ 薄膜蒸留装置 ]	1台 (SUS : 50～80kg/h)	[ 高圧釜ラボ器 ]	1台 (ﾊｽﾃﾛｲ : 20L 0.8Mpa程度まで)
[ 高圧釜ラボ器 ]	1台 (SUS : 0.5L 10Mpa程度まで)	[ 遠心分離機 ]	4台
[ 冷凍機 ]	1台	[ 濾過器 ]	2台
[ 真空振動乾燥機 ]	1台	[ 真空乾燥機（棚段式） ]	12台 (SUS : 100～200L )
[ 真空ポンプ ]	10台 (ｱﾝﾚｯﾄ)	[ エゼクター ]	1台
[ 廃ガス吸収塔 ]	2台	[ 超低温冷凍庫 ]	1台 (710L -80℃まで)

[ ｸﾛﾏﾄ装置 ]

2台 (SUS : ｼﾘｶｹﾞﾙ220kg・600mmφ×2ｍ)

[ ｵｰﾌﾟﾝｸﾛﾏﾄ装置 ]

1台 (SUS : ｼﾘｶｹﾞﾙ160kg・400mmφ×2ｍ)

[ 薄膜蒸留装置 ]

1台 (SUS : 50～80kg/h)

[ 高圧釜ラボ器 ]

1台 (ﾊｽﾃﾛｲ : 20L 0.8Mpa程度まで)

[ 高圧釜ラボ器 ]

1台 (SUS : 0.5L 10Mpa程度まで)

[ 遠心分離機 ]

4台

[ 冷凍機 ]

1台

[ 濾過器 ]

2台

[ 真空振動乾燥機 ]

1台

[ 真空乾燥機（棚段式） ]

12台 (SUS : 100～200L )

[ 真空ポンプ ]

10台 (ｱﾝﾚｯﾄ)

[ エゼクター ]

1台

[ 廃ガス吸収塔 ]

2台

[ 超低温冷凍庫 ]

1台 (710L -80℃まで)

[ 工場外観 ]	[ 工場内 ]

反応及び濃縮釜 4種類	① 2000Ｌ 6台 (GL : ECOGLⅡ) ② 2000Ｌ 12台 (GL : -30℃～150℃) ③ 2000Ｌ 2台 (GL : 段数5段の精留塔) ④ 200Ｌ 2台 (GL : -30℃～150℃)	蒸留釜（熱媒） 4種類	① 500Ｌ 1台 (SUS : ～250℃ 2段固体蒸溜可) ② 1000Ｌ 1台 (GL : 段数5段) ③ 200Ｌ 1台 (SUS : 段数10段) ④ 300Ｌ 1台 (GL : -50℃まで冷却可)

[ 熱媒ボイラー ]	1台	[ 蒸留基 ]	1台 (ｶﾞﾗｽ : 20L ｸﾘｰﾝﾌﾞｰｽ対応)
[ 遠心分離機 ]	4台	[ 冷凍機 ]	2台
[ ｺﾆｶﾙﾄﾞﾗｲﾔｰ ]	1台 (GL : 500L)	[ 真空ポンプ ]	12台 (ｱﾝﾚｯﾄ)
[ スクラバー ]	1台	[ ｴﾊﾞﾎﾟﾚｰﾀｰ ]	1台 (ｶﾞﾗｽ : 20L 東京理科機)
[ 窒素発生器 ]	1台

[ 熱媒ボイラー ]

1台

[ 蒸留基 ]

1台 (ｶﾞﾗｽ : 20L ｸﾘｰﾝﾌﾞｰｽ対応)

[ 遠心分離機 ]

4台

[ 冷凍機 ]

2台

[ ｺﾆｶﾙﾄﾞﾗｲﾔｰ ]

1台 (GL : 500L)

[ 真空ポンプ ]

12台 (ｱﾝﾚｯﾄ)

[ スクラバー ]

1台

[ ｴﾊﾞﾎﾟﾚｰﾀｰ ]

1台 (ｶﾞﾗｽ : 20L 東京理科機)

[ 窒素発生器 ]

1台

[ 工場外観 ]	[ 工場内① ]	[ 工場内② ]

反応及び濃縮釜 6種類	① 2000Ｌ 8台 (GL : -30℃～150℃) ② 200Ｌ 2台 (GL : -30℃～150℃) ③ 200Ｌ 3台 (GL : -30℃～150℃) ④ 200Ｌ 1台 (SUS : 低温反応可 -80℃まで) ⑤ 1200Ｌ 2台 (SUS : 低温反応可 -80℃まで) ⑥ 2000Ｌ 2台 (SUS : -30℃～150℃)	蒸留釜（熱媒） 1種類	① 200Ｌ 1台 (GL : 5段)

[ ｸﾛﾏﾄ装置 ]	2台 (SUS : ｼﾘｶｹﾞﾙ220kg・600mmφ×2ｍ)	[ エバポレーター ]	2台 (ｶﾞﾗｽ : 20L 東京理科機械　ﾋﾞｭｯﾋ)
[ 真空ポンプ ]	5台 (ｱﾝﾚｯﾄ)	[ スクラバー ]	1台
[ クリーンブース ]	1台 (20L蒸留装置 5～10段変更可)	[ 窒素発生器 ]	1台
[ 冷凍機 ]	1台	[ 加圧濾過器 ]	3台 (SUS : 100L 60φ)
[ 加圧ろ過機 ]	1台 (SUS : 300L 90φ PTFEｺｰﾃｨﾝｸﾞ)

[ ｸﾛﾏﾄ装置 ]

2台 (SUS : ｼﾘｶｹﾞﾙ220kg・600mmφ×2ｍ)

[ エバポレーター ]

2台 (ｶﾞﾗｽ : 20L 東京理科機械　ﾋﾞｭｯﾋ)

[ 真空ポンプ ]

5台 (ｱﾝﾚｯﾄ)

[ スクラバー ]

1台

[ クリーンブース ]

1台 (20L蒸留装置 5～10段変更可)

[ 窒素発生器 ]

1台

[ 冷凍機 ]

1台

[ 加圧濾過器 ]

3台 (SUS : 100L 60φ)

[ 加圧ろ過機 ]

1台 (SUS : 300L 90φ PTFEｺｰﾃｨﾝｸﾞ)

[ 工場外観① ]	[ 工場外観② ]

[ コニカルドライヤー ]	2台 [ (SUS : 1000L)×1台 (GL : 1000L)×1台 ]

[ 工場外観 ]	[ 工場内① ]	[ 工場内② ]

反応及び濃縮釜 4種類	① 2000Ｌ 12台 (GL : -30℃～150℃) ② 1000Ｌ 2台 (GL : -30℃～150℃) ③ 2000Ｌ 2台 (GL : 高圧反応釜 10kg/cm²まで) ④ 2000Ｌ 2台 (SUS : 低温反応可 -70℃まで)

[ 遠心分離機 ]	4台	[ スクラバー ]	1台
[ 真空ポンプ ]	10台 (ｱﾝﾚｯﾄ)	[ 真空乾燥機 ]	12台 (SUS : 100L 棚段式)
[ 冷凍機 ]	1台

[ 遠心分離機 ]

4台

[ スクラバー ]

1台

[ 真空ポンプ ]

10台 (ｱﾝﾚｯﾄ)

[ 真空乾燥機 ]

12台 (SUS : 100L 棚段式)

[ 冷凍機 ]

1台